資源簡介

(共18張PPT)
產品深化設計
目錄
Contents
壹
產品造型設計過程
貳
造型設計方法
叁
外觀件的CMP設計
產品造型設計過程
產品造型設計應用工程技術和藝術手段設計、塑造產品的形象，并將其最后統一在產品的功能、結構、工藝、宜人性、視覺傳達、市場關系等而取得人—機（產品）—環境和諧的一項創造性設計。下面小編來介紹幾種常見的產品造型設計方法。
1、幾何造型
在幾何形體的造型過程中設計師需要根據產品的具體要求，對一些原始的幾何形態作進一步的變化和改進，如對原型的切割、組合、變異、綜合等造型手法，以獲取新的立體幾何形態
3、趣味型
在當前的產品設計中，消費者的消費趣味和文化趣味成為了影響設計的首要因素，產品設計人員必須能夠以趣味性的設計來構建起人與物較好的情感交流。
造型設計方法
1.主動造型：設計師有目的性且主動設置、添加在產品上的造型（為了方便受眾理解產品功能、使用方式、感知等等）
2.被動造型：被產品本身構造或技術限定下，不得以而為之，或被迫情況下添加的造型（多是彌補產品構造缺陷、尋找平衡的優化術）
由于兩種造型設計初衷的不同，自然設計的方法肯定也會有天壤之別，下面給大家歸納了一些好的造型設計方法，希望能幫助大家從源頭上理解產品造型設計的原理與方法，能夠形成關于產品造型設計系統知識體系，這樣才能夠游刃有余的做出好的造型設計，滿足不同的設計訴求。
1.造型可共性聯想法
設計師有目的性且主動設置、添加在產品上的造型，那么這些造型一定要很考究，不多不少，不啰嗦累贅，且能夠被用戶第一時間準確的解讀及理解，那么我們就可以通過聯想的方法，尋找到一個造型載體，他能夠表達我的設計意圖，最好這個造型載體的感知已經存在于用戶的經驗和記憶里，這樣他才能夠在不需要解釋的情況下讀取并理解。
2.類比法
人們在長期探索自然規律的過程中，逐漸形成了針對各種現象的理解及解釋，然后我們把個別現象的解釋通過重構的方式放到其他相似事物上，這種思維就叫類比。
3.規約法
通過造型或設計上采用一些規則或限定的方式去限制用戶的使用行為或使用規范，達成設計的目的也是常用的一種手法。
外觀件的CMP設計
CMP：半導體拋光材料，芯片平坦度必經之路
晶圓廠持續擴產，帶動材料永續性需求提升
集成電路制程逐步升級，CMP要求水漲船高
CMP呈現寡頭及龍頭壟斷，格局有望在大陸復制
國內龍頭：鼎龍股份、安集科技 CMP耗材快速放量
CMP：半導體拋光材料，芯片
平坦度必經之路
CMP全稱為Chemical Mechanical Polishing，化學機械拋光，是半導體晶片表面加工的關鍵技術之一。
CMP包括三道拋光工序，主要運用到的材料包括拋光墊、拋光液、蠟、陶瓷片等。不同工序根據目的的不同，分別需要不同的拋光壓力、拋光液組分、pH值、拋光墊材質、結構及硬度等、CMP拋光液和CMP拋光墊是CMP工藝的核心要素，二者的性質影響著表面拋光質量。
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